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GMSD2000/4 溶膠研磨分散機(jī) 1.設(shè)備名稱:溶膠研磨分散機(jī),溶膠研磨設(shè)備,德國研磨分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī),進(jìn)口研磨分散機(jī),研磨分散機(jī)廠家,研磨分散機(jī)價(jià)格
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2.溶膠特征:
(1)分散相粒子大小在1—100nm范圍,且分散相在分散介質(zhì)中的溶解度很小。分散相和分散介質(zhì)存在分界面,因此它是高度分散的多相體系,粘度比真溶液大;
(2)溶膠不穩(wěn)定,膠粒具有自動(dòng)凝結(jié)變大的趨勢,放置較長一段時(shí)間后,也會(huì)沉淀出來,但是短時(shí)間內(nèi)具有一定穩(wěn)定性;
(3)膠體沉淀后,如果再放入分散介質(zhì)也不會(huì)再自動(dòng)形成溶膠,因此沉淀是不可逆的過程。
效果好的溶膠,粒子應(yīng)該是分散均勻且無抱團(tuán)現(xiàn)象,這就需要有高的剪切力,國產(chǎn)研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速較低,轉(zhuǎn)定子間隙較大,不能滿足實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)的需要。SGN公司研發(fā)的高剪切研磨分散機(jī),轉(zhuǎn)速具有14000轉(zhuǎn),采用德國的高精密設(shè)備加工轉(zhuǎn)定子,使得間隙可以控制的很小,加上高的轉(zhuǎn)速,可以有效分散細(xì)小顆粒,解決抱團(tuán)的問題。
3.溶膠制備方法:
由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中,而且這種分散體系能在穩(wěn)定劑存在下能夠穩(wěn)定下來。從粒子大小看,由于溶膠粒子小于可濾出的粒子,而大于一般溶液的小分子:將大塊物質(zhì)利用研磨分散機(jī)等手段,磨成直徑0.1—1μm的粒子,即分散法。
GMSD2000/4 溶膠研磨分散機(jī)
4.溶膠研磨分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。
分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出產(chǎn)品是很重要。
GMSD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
5.溶膠研磨分散機(jī)設(shè)備選型表:
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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